近年来,随着电磁器件向小型化和高性能方向发展的需要,软磁薄膜在高频磁性方面的研究愈发重要。这就要求软磁材料在更高的频率(GHz)下具有高磁导率、高饱和磁化强度和适当大的磁各向异性,以便提高截止频率。铁钴基合金软磁薄膜具有高饱和磁化强度和高磁各向异性等优异的磁学性能,因此在磁记录、微型电感及薄膜变压器等高频电子器件方面得到了广泛的应用。制备薄膜的方法有很多种,包括磁控溅射和分子束外延等。虽然这种方法制备出的的薄膜具有良好的磁学性能,但是生产成本较高,难以适应工业化大规模生产的要求。电化学沉积是一种设备简单、成本低的制备薄膜方法。本文利用电化学沉积方法制备了FeCo和FeCoZr合金软磁薄膜。利用台阶仪薄膜厚度测试、XRD物相结构分析、SEM微观形貌观察、ICP成分分析、VSM静磁特性测量、矢量网络分析仪和ESR高频磁性分析,研究了工艺参数对软磁合金薄膜的结构和磁学性能的影响,找到了具有最佳软磁性能和高频特性的制备工艺。利用激光打标机对薄膜进行图案化处理,有效地调控了薄膜的磁各向异性和共振频率。对薄膜的制备方法、结构表征、静态和高频磁性进行了系统地研究。本研究的主要工作如下：1、系统地研究了电沉积工艺和参数。通过改变沉积电位、添加剂的种类和浓度、溶液温度和Zr元素的掺杂等条件,找到了制备FeCo基软磁薄膜的最佳沉积条件。并且在ITO衬底上制备出了具有面内各向异性的FeCoZr软磁薄膜,其面内各向异性场为64Oe,自然共振频率达3.4GHz。2、为了进一步实现对薄膜面内各向异性的调控,通过诱导各向异性和形状各向异性的共同作用使薄膜的面内各向异性和共振频率在较大范围内连续可调。利用激光打标机对ITO导电玻璃衬底进行图案化处理,得到具有不同宽度的条纹阵列,然后再进行电化学沉积制备出条纹阵列的图案化FeCo薄膜。当诱导各向异性和形状各向异性平行时,条纹的宽度在0.05mm—1.00mm之间变化时,样品的面内有效各向异性场可以在105Oe—700Oe之间变化,使其共振频率在3.8GHz—8.2GHz之间可调。反之,当诱导各向异性和形状各向异性垂直时,样品的面内有效各向异性场可以在12Oe—66Oe之间变化,使其共振频率在1.0GHz—3.5GHz之间可调。对上述实验结果进行了理论分析,建立了适用于条纹阵列薄膜的物理模型,推导出了相对应的计算公式,对样品磁性参数的实验值和理论值进行了比较,两者符合的很好。3、在柔性的Cu衬底上沉积FeCo连续膜,弯曲衬底使薄膜产生内应力。通过改变衬底弯曲的曲率,实现各向异性场的调控。在不需要外加诱导磁场的情况下,产生的应力各向异性场可以达到170Oe,其共振频率可达4.8GHz。4、利用电子自旋共振谱仪对具有面内各向异性的软磁薄膜进行铁磁共振的研究。根据铁磁共振的基本理论,建立了适用于薄膜的基本模型,实现了对薄膜饱和磁化强度和各向异性场的精确测量,从而解决了这两个参数测量不准确的问题,这对样品磁性参数的准确获得有着重要意义。本文通过探索电化学沉积工艺,找到能够制备出具有面内各向异性软磁薄膜的最佳沉积条件。并通过不同的工艺处理,找到了可以在较宽范围内调节面内各向异性场的方法,从而能有效地调节薄膜的高频性能。