【摘 要】
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氧化物薄膜由于良好的化学稳定性和耐磨性而在高密度记录介质的研究中倍受关注.而钡铁氧体薄膜由于易磁化轴c轴的巨大的磁晶各向异性而成为这一研究中的热点.另一方面,与钡铁
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氧化物薄膜由于良好的化学稳定性和耐磨性而在高密度记录介质的研究中倍受关注.而钡铁氧体薄膜由于易磁化轴c轴的巨大的磁晶各向异性而成为这一研究中的热点.另一方面,与钡铁氧体结晶构造相似的锶铁氧体薄膜,其磁晶各向异性比钡铁氧体还大,却很少对其进行研究.该论文是以高密度记录介质材料锶铁氧体薄膜为对象,以提高锶铁氧体薄膜的磁性能为目的,研究了溅射的各种条件对其磁性能和结构的影响.其中溅射的条件包括基板温度、溅射气压、氧分压、靶成分以及膜厚.同时,对低温下溅射的非晶膜进行了热处理,热处理包括热处理温度和热处理时间两个方面.
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