低红外发射率涂层的力学性能研究

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低红外发射率涂层因其降低红外辐射强度明显、制备方便、成本低等突出优点,成为红外隐身材料的重要研究品种之一。低红外发射率涂层体系因高的填料填充比,普遍存在力学性能和耐腐蚀性能较差的问题,因而制备具有优良工程应用性能的低红外发射率涂层成为制备红外隐身涂料的关键。本论文系统地研究了红外隐身低发射率涂层的发射率性能与力学性能之间的关系;通过实验系统地分析了树脂结构、填料状态、助剂结构和涂层制备工艺参数对涂层发射率性能和力学性能的影响;获得了低红外发射率、高工程应用性能的低发射率涂层,实现了红外隐身涂层从实验室研究到工程化应用过程。取得了如下主要研究成果:   1.通过对涂层组成与结构的研究,揭示涂层红外发射率性能与力学性能内在关系与矛盾。从涂层的组成与微观界面角度,提出改善低红外发射率涂层力学性能的方案:树脂基体改性、界面改性(填料表面改性、添加助剂)和优化涂层制备工艺。   2.依据低红外发射率涂层的力学性能研究方案,分析了树脂种类与基团结构、填料种类与形态、固化剂结构及助剂种类对涂层发射率和力学性能的影响机理;提出了树脂结构、涂层界面结合强度是影响涂层力学性能的关键因素。   3.根据低红外发射率涂层的制备技术,结合涂层优化方法,探讨了工艺参数对低发射率涂层力学性能的影响:当基板用硅烷液处理、固化温度为80℃、涂层厚度为30μm时,涂层的力学性能最佳。
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