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氧化锌是一种廉价易得、无毒、化学性能稳定、环境友好的宽带隙半导体材料，在紫外光照射下，能够分解环境中多种有机污染物，表现出优异的光催化降解性能。但在实际应用中仍然存在着一些有待于解决的问题，如光生电子-空穴对易于快速复合、光响应范围窄、固定化和回收再利用等，因此，氧化锌光催化剂的表面改性以及固定化研究已成为当今光催化研究领域的热点课题。近年的研究表明半导体光催化剂的复合技术是行之有效的表面改性方法。到目前为止，提高半导体光催化剂的电荷分离效果的研究已经非常深入，大量的具有良好的紫外光催化性能的二元复合半导体体系相继被报道，相比之下，扩大氧化锌光响应范围及固定化的研究尚需发展，已报道的具有可见光响应的复合半导体光催化剂及薄膜催化剂为数不多，因此，发展新型可见光催化剂及薄膜光催化剂具有深远的研究价值。本论文采用锌锡水滑石复合物的浆料涂敷/高温焙烧技术在-Al2O3基片上制备得到ZnO/SnO2复合金属氧化物薄膜；采用镍锌锡水滑石复合物的高温焙烧法制备得到NiO/ZnO/SnO2复合金属氧化物。运用多种分析表征手段，如XRD、UV-Vis、TG-DTA、FT-IR、ICP、SEM、EDS、BET、XPS以及Raman等对合成产物进行结构、组成、表面形貌等分析。选取罗丹明B及亚甲基蓝分别作为紫外、可见光降解的目标降解物，进行光催化降解的性能评价。（1）采用恒定pH值共沉淀法制备ZnSn-LDHs/ZnSn（OH）6悬浆液，通过涂敷浇注技术在-Al2O3基片上得到ZnSn-LDHs/ZnSn（OH）6薄膜，经500700℃焙烧，得到系列ZnO/SnO2复合半导体薄膜。探索了ZnSn-LDHs/ZnSn（OH）6薄膜与ZnO/SnO2薄膜的紫外光催化性能，结果表明，[Zn2+]/[Sn4+]投料比为2/1的ZnSn-LDHs/ZnSn（OH）6复合薄膜表现出良好的紫外催化降解能力，30min内对罗丹明B的降解率达到99.0%；700℃焙烧产物ZnO/SnO2复合半导体薄膜对罗丹明B的降解率达到95.45%。（2）采用恒定pH值共沉淀法制备NiZnSn-LDHs/ZnSn（OH）6粉体复合材料，经高温焙烧得到NiO/ZnO/SnO2复合金属氧化物粉体材料，并且探索了NiO/ZnO/SnO2复合氧化物粉体材料的可见光催化降解性能，结果表明，[Ni2+]/[Zn2+]/[Sn4+]投料比为0.4/3/1、600℃下焙烧得到的NiO/ZnO/SnO2复合金属氧化物表现出良好的可见光催化降解性能，6h内对亚甲基蓝的降解率达到87.89%。