在计算机技术飞速发展的今天,计算机的存储容量日益增大,这样就对集成电路的制造工艺提出了更高的要求,要求集成电路的图形更加微细化,电路尺寸不断缩小,如今投入大规模生产的集成电路的特征尺寸已经达到了90nm,这样一方面要求圆片直径不断增大以提高生产率,另一方面对晶体的完美性、机械及电特性也提出了更为严格的要求。特别是微区的电学特性及其均匀性已经成为决定将来器件性能优劣的关键因素。因此,微区电阻率的测试成为芯片加工之中的重要工序。作为集成电路测试手段的四探针技术有着重要的应用,但是目前的四探针技术还存在着一些不足。因此本文进行了以下的研究:本课题的创新点有以下四点:1、提出了一种新的神经计算的方法,其最大的特点是在进行特定的权值调整时无须加入学习率。在实际的计算中利用这种方法进行曲线拟合能方便地求出拟合多项式的系数,简化了计算过程,便于编程计算。2、将这种方法应用到范德堡函数的多项式拟合中,作出了范德堡函数函数图象,使得四探针微区测量技术更具实用性。3、讨论了有限厚度半导体样品微区电阻率的微区测量中的厚度修正问题,把厚度修正公式的结果用规范化拟合法得到了一个多项式,该多项式又被绘制成相应的曲线,最后用实验验证了该修正公式的正确性,完善了改进的Rymaszewski方形四探针的微区测量方法,使得四探针微区测量技术更具实用性。