利用磁控溅射制备薄膜的研究

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近20年来,薄膜技术与薄膜材料获得迅猛发展。各类新型薄膜材料大量涌现,薄膜制作和微细加工工艺不断创新,各种薄膜在高新技术中的应用也更加的普及。薄膜技术与薄膜材料之所以受到人们的关注,主要是基于薄膜技术是实现器件轻薄短小化和系统集成化的有效手段。磁控溅射技术在薄膜的制备领域有着广泛的应用,不同的制备工艺和制造技术对所制薄膜样品有着重要的影响。采用磁控溅射技术,探索不同的实验条件制备金属薄膜。在前人研究的基础上,介绍了磁控溅射镀膜原理以及磁控溅射实验过程。利用磁控溅射技术制备了Cu膜、Ti膜以及Cu-Zr金属薄膜样品,并分析了Cu膜、Ti膜的光学性能。通过XRD衍射实验分析了Cu-Zr合金薄膜的非晶结构。
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