【摘 要】
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论文主要从理论计算方面研究系列三阶非线性光学材料的几何特征,电子结构,激发态性质及其三阶非线性光学性能,探讨结构中起主要作用的敏感官能部位,总结对性能起重要贡献的因
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论文主要从理论计算方面研究系列三阶非线性光学材料的几何特征,电子结构,激发态性质及其三阶非线性光学性能,探讨结构中起主要作用的敏感官能部位,总结对性能起重要贡献的因素,以期对新型非线性光学材料的设计与合成起到一定的指导作用.研究工作中使用半经验INDO/SDCI方法、从头算方法和密度泛函理论计算材料分子的电子结构和激发态的性质,得到偶极跃迁矩和跃迁能等相关数据,然后结合态求和方法计算材料分子的三阶非线性光学极化率.通过比较和分析计算结果,解释和总结材料分子的结构与其三阶非线性光学性质之间的内在联系.论文的第三章选择系列酞菁化合物作为研究对象,讨论了不同的中心金属离子对三阶非线性光学性质的影响,确认酞菁共轭环平面上的π轨道到金属离子的d轨道电子跃迁对三阶非线性光学极化率起主要贡献.论文的第四章研究富勒烯和杂硅富勒烯衍生物的基态与第一激发态下的三阶非线性光学性质,阐释了激发态下三阶极化率增强的原因,并分析比较了不同的硅取代对三阶极化率的影响.论文的第五章选择当前备受关注的碳纳米管,分析了不同手性的纳米管的三阶非线性光学性质,解释管轴和管径对三阶极化率的影响,同时讨论了激发三重态三阶极化率增强效应.
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