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真空阴极电弧离子镀作为物理气相沉积的一种方法，尤其适用于在金属表面制备各种金属膜或化合膜，本文用该方法制备了TiAlN薄膜，并对结构和性能进行分析。TiAlN薄膜具有优良的高温耐腐蚀和抗氧化能力，而且其具有比TiN更好的耐摩性，具有广阔的应用前景。 在本文中，我们用真空阴极弧离子镀制备了不同氮气分压和不同偏压模式下的TiAIN薄膜，使用的靶材是Ti、Al合金靶，原子比Ti(50)：Al(50)，基片采用不锈钢。实验中发现膜层的结构和性能随工艺参数的变化而变化，分别用XRD、SEM、AFM对膜层的元素组成、晶体结构和表面形貌进行分析，此外还分析了不同工艺参数下膜层的纳米硬度、杨氏模量和电化学腐蚀。