PLD中等离子体屏蔽效应与烧蚀机理的研究

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【摘要】

：

脉冲激光沉积技术(Pulsed Laser Deposition 简称PLD)是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的一项制膜技术,它自20世纪60年代世界上出现了第一台红宝石激光器起开始萌芽,一直比较缓慢地发展。直到1987年,高Tc超导氧化物薄膜在贝尔实验室制备成功,PLD技术引起了人们的广泛关注并迅速发展起来。这项技术较其他薄膜制备技术有激光能量高、薄膜的化学成分比与靶材一致、沉积速率高、

【作者】

：

侯思普

【机构】

：

华中科技大学

【发表日期】

：

2004年04期

【关键词】

：

PLD技术脉冲激光能量密度烧蚀面固液相界面温度演化等离子体膨胀等离子体屏蔽

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