本文利用射频磁控溅射方法制备了TiNi与TiNiCe合金薄膜。通过扫描电子显微分析(SEM)、原子力显微分析(AFM)、X射线衍射分析(XRD)、透射电子显微分析(TEM)、椭圆偏振法和分光光度光谱法系统地研究薄膜的表面特性、微观结构和光学特性。 分析了TiNi和TiNiCe合金薄膜母相折射率和消光系数均随氩气偏压的增加而增大；随溅射功率增大，TiNiCe合金薄膜母相折射率增大，而消光系数无明显变化的特性。 总结了当激光光源波长为650nm时，TiNi合金薄膜母相与马氏体相反射率差值为18.12﹪，当激光光源波长为450nm时，TiNi合金薄膜两相反射率差值达26.03﹪。当激光光源波长为800nm时，TiNiCe合金薄膜母相与马氏体相反射率差值为19.83﹪的原理。