本文采用中频反应磁控溅射技术在柔性PET衬底上室温沉积了ZnO薄膜。通过改变溅射功率、氩氧流量比以及溅射时间等工艺参数，制备出具有不同性能的柔性ZnO薄膜。通过霍尔测试仪(Hall)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、吸收透射谱以及X射线能量色散仪(EDS)分别研究了柔性ZnO/PET薄膜的电学性质、晶体结构、表面形貌、光学性质以及表面组分。获得溅射功率20w和氩氧流量比1∶1为室温下沉积柔性ZnO/PET薄膜的优化工艺条件。　　由于柔性PET衬底受热易变形，本文提出一种新颖的激光辐照后处理方法，研究了激光辐照能量对薄膜晶体结构、表面形貌以及电学性质的影响。实验结果表明:激光辐照有效改善了柔性ZnO/PET薄膜的晶体结构和电学性能，使薄膜表面ZnO颗粒产生团聚融合，并在(100)和(101)晶面上产生明显的取向生长，薄膜由非晶转为多晶结构;同时有效提高了柔性ZnO/PET薄膜的载流子浓度，降低电阻率，改善室温下沉积柔性ZnO薄膜导电性能。对开发柔性ZnO薄膜的应用具有重要的意义。