本论文介绍了YiO₂薄膜光催化和亲水性的研究背景及其原理,比较了各种TiO₂薄膜的制备技术和方法,并对其光催化和亲水性的影响因素进行了总结。提出以介质阻挡放电化学气相沉积法（DBD-CVD）制备TiO₂单层薄膜和TiO₂/SnO₂:F复合薄膜的实验目标。 以TTIP（四异丙醇钛）为先驱体,采用介质阻挡放电化学气相沉积法（DBD-CVD）,在普通玻片上制备得到具有一定光催化性和亲水性的TiO₂单层薄膜,并且以此为基础,初步在Low-E玻璃（SnO₂:F薄膜）上镀TiO₂薄膜,在一定程度上实现了低辐射和自清洁功能的复合。 文章系统研究了沉积温度、沉积电压等工艺参数对普通玻片上沉积的TiO₂单层薄膜的形貌结构、透过率、光催化和亲水性能的影响。DBD-CVD法在较低的沉积温度下制备出的TiO₂薄膜是非晶态的,光催化效率比较低,亲水性比较差。随着沉积温度的升高,出现锐钛矿相,薄膜表面开始变得比较均匀平整致密,光催化和亲水性能逐渐提高。沉积电压比较低时,薄膜是非晶态,表面粗糙度比较大,光催化和亲水性都比较差。随着沉积电压的增大,薄膜的厚度增加,薄膜表面开始变得比较均匀平整致密,粗糙度变小,结晶性能提高,吸收边有红移趋势,亲水性也随之改善,但光催化性能在100V时最好。 在Low-E玻璃上制备的反应时间系列的TiO₂/SnO₂:F的复合薄膜,当反应时间比较短时,薄膜中的TiO₂处于非晶状态,当反应时间为1h时,薄膜表面开始变得相对致密,出现TiO₂的锐钛矿相。当反应时间达到2h时,薄膜中出现了微弱的Ti₆O₁₁相。随着反应时间的增长,膜厚增加,可见光波段的透过率逐渐下降,薄膜的吸收边随着膜厚的增加向长波长移动。薄膜的光学带隙逐渐减小,光催化活性和亲水性随着反应时间的增长先增加,后减小,在0.5h时达到最好。通过理论计算和实际测试,均发现随着反应时间的增大,薄膜的方块电阻增大,中远红外反射率减小,并对复合薄膜的电学性能的产生机理进行了理论分析。