PECVD镀膜设备的控制系统开发

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在现代科学技术与工业生产的发展进程中,真空镀膜技术处于非常重要的地位,往往由于一种新真空镀膜设备的研制或一项新工艺的应用,直接带来巨大的经济效益和社会效益。等离子体增强化学气相沉积镀膜设备(PECVD)可用于纳米级功能薄膜、硬质膜、光学薄膜的开发,本文的目的是开发用于此种镀膜设备的控制系统。本文选定沈阳科学仪器研制中心正在研发的平板式太阳能电池制备设备为研究对象,根据科研工艺的要求,开发了一套以OPTO 22公司产品为基础的控制系统。该系统采用基本的两级控制结构,包括上位监控级和下位控制级,以工业控制计算机为主控制器,采用组态软件编程,通讯、数据处理能力强,控制系统的结构易于调整、升级,抗干扰能力强,通用性强。控制级开发详细论述了控制现场的硬件结构设计。重点是以OPTO 22公司的自带编程的产品来对镀膜设备进行控制,通过PLC软件程序简化了原有的硬件逻辑电路。装、卸载控制系统为核心,结合伺服电机以脉冲量控制移动的距离来对进、出样运输台进行控制。装、卸载控制系统开发和温度控制系统为重点,并进行了硬件连接,实现了以下控制要求:(1)先分析加热丝温度的特点,而后确定控制函数,并进行Matlab仿真,确定专家PID算法能很好的抑制超调量,从而达到理论指导实际。(2)实现温度控制系统报警处理。(3)实现装、卸载运行和工艺参数的精确控制。(4)实现各种数据的存储及历史运行数据查询。
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