本文主要对微纳加工中高精度测量对实现精确定位的影响进行了研究。 首先，作者通过查阅国内外相关研究资料，了解了微纳加工当前的发展概况、今后的发展方向，以及通过高精度测量系统实现对工件的精确定位在微纳加工技术中所起的重要作用。在此基础上，以目前微纳加工领域测量定位中使用最广泛的两种高精度测量系统——光栅尺、双频激光干涉仪——作为对象，分析研究了运用这两种系统进行测量对实现高精度定位的影响。 在理解光栅尺、双频激光干涉仪的基本测量原理的基础上，从测量装置本身的误差和装置使用过程中出现的误差两个方面，对光栅尺、双频激光干涉仪的测量误差进行理论分析。并以微纳加工领域中具有典型代表性意义的电子束曝光机作为实验平台，对微纳加工中运用高精度测量系统实现精确定位的误差进行了具体分析。 通过对试验结果的分析，得出以下结论：对通过光栅尺测量实现对工件的精确定位来说，影响最大的两个因素是测量系统电子倍频非线性误差和阿贝误差，由此产生的定位误差可以达到甚至超过分辨率的量级，另外测量正交性误差对定位精度也有很大的影响；对运用激光干涉仪进行精确定位来说，在严格要求的环境(高真空、气垫隔振等)中，温度变化是对实现精确定位影响最大的因素，并以此解释了电子束曝光机用的精密工件台在静止状态下位置发生漂移的现象。 最后，针对原有的位置测量反馈的缺点，结合电子束曝光机的精密工件台精确定位的要求，提出了一种实时温度补偿的方法，该方法直接对测量值进行修正，并以修正后的结果作为位置反馈，因此极大地减小了工件台和光学器件热膨胀引起的误差。实验证明校正后的测量定位精度测量得到了明显的改善，并在此基础上讨论分析了实时温度修正过程中产生误差的原因。