几种新型阻垢剂与溶液中成垢离子间的配位化学研究

来源 :同济大学理学院 同济大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jishume
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本文通过 pH 电位滴定的方法和先进的 BEST 数据处理程序研究阻垢剂 ATMP(氨基三甲叉膦酸)、PBTCA(2-膦基-1,2,4-丁三酸)、PAA(聚丙烯酸, Mw=2000)和PMAAA(马丙共聚物,Mw=3000)自身的酸离解情况以及与成垢离 子Ca2+、Mg2+、Cu2+、Zn2+、Pb2+、Cd2+、Ni2+之间的配位化学作用,并得到了各 配合物的稳定常数,以及不同 pH 下的配合物形态分布图。研究结果表明,σ(误 差)较小,说明所建立的酸碱配位化学模型合理,结果准确;特别对聚电解质类 阻垢剂,通过合理配位化学模型的建立,PAA 以一级电离模型,PMAAA 以三 级电离模型来处理,从宏观意义上研究了其自身酸离解情况以及与成垢离子之 间的溶液配位化学行为,实验结果表明,误差σ较小,说明按实验所设计的模 型来处理聚电解质是可行的。 研究表明:阻垢剂与金属离子之间的配位能力的顺序一般为 ATMP>PBTCA>PMAAA>PAA;阻垢剂与重金属离子(Cu2+、Zn2+、Pb2+、Cd2+、 Ni2+)之间的配位能力大于阻垢剂与Ca2+、Mg2+离子之间的配位能力,重金属离 子的存在可能会影响阻垢剂对钙、镁离子的稳定作用。本文通过对阻垢剂与成 垢金属离子之间的溶液配位化学研究,为进一步从分子水平考察阻垢剂与金属 离子之间的相互作用机理,从更深层次了解阻垢机理本质提供了一定的配位化 学基础。 关键词:酸碱电位滴定 配位化学 金属离子 稳定常数 BEST程序 阻垢机理 ATMP PBTCA PAA PMAAA
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