环抛中抛光胶盘面形在线监控技术研究

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本文围绕大口径超精密光学元件在环形抛光加工过程中遇到的难题,开展了环形抛光中抛光胶盘面形的在线监控技术研究,并实现了对抛光胶盘面形的在线实时监测。  环形抛光技术由于其独特的全频谱段面形控制优势,成为大口径光学元件加工的首选方式。传统环形抛光技术严重依赖工艺人员的加工经验,通过频繁离线检测待加工元件的面形来判断抛光胶盘面形的变化,该方法导致加工时间不确定和加工效率低,并且容易引入表面疵病等质量问题。本论文基于光学干涉的方法,分析了抛光胶盘面形在线监控技术的基本原理,研究了面形在线监控技术的实现方式,引入“光程差分布”的概念,将发生于元件上下表面自干涉的光程差和元件的面形起伏建立联系,提出了在线实时检测抛光胶盘面形变化的方案。通过引入陪抛片,利用动态干涉仪和扩束系统搭建了激光干涉面形检测系统。通过对其系统稳定性和重复性测试分析,该系统具有较好的环境适应性和系统稳定性,可以应用于抛光胶盘的面形检测实验。阐述了利用激光干涉面形检测系统进行监测抛光胶盘面形变化的具体实施方法。将陪抛片和中等口径钕玻璃元件对称放置在同一工件环中,开展陪抛片和光学元件的在线离线面形检测对比实验,得到在线和离线检测面形PV和Power在趋势上保持一致,在数值上存在一定的偏离,并定量分析影响在线和离线检测面形数值偏离的因素,发现在排除掉抛光热变形和应力变化及元件放置姿态引入的误差外,元件的在线自干涉检测面形和离线检测反射透射面形满足确定的比例关系。利用激光干涉面形检测系统通过检测抛光过程中陪抛片上下表面产生的自干涉条纹和波面,能够实现中等口径光学元件的在线实时监控。  由于元件口径和运动轨迹等抛光参数的差异,陪抛片和大口径元件中心区域的面形在数值和趋势上没有明显的变化规律;陪抛片和距离工件环中心相同距离处大口径元件的面形在趋势和数值上基本保持一致。小尺寸陪抛片的面形变化反映大口径元件的面形变化还需要进一步的研究,需要更大口径的扩束系统以实现对大口径光学元件的全口径检测。
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