【摘 要】
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该文根据磁镜场对等离子体的约束作用原理,在原有的PCVD装置基础上,外加了不同大小、位形磁镜场,研究了不同磁镜场对等离子体中电子(离子)微观输运特性的影响,并利用二元流体
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该文根据磁镜场对等离子体的约束作用原理,在原有的PCVD装置基础上,外加了不同大小、位形磁镜场,研究了不同磁镜场对等离子体中电子(离子)微观输运特性的影响,并利用二元流体动力学模型对不同磁镜场中PCVD沉积薄膜的特性进行了研究.最后结合理论计算和模拟结果,利用自制的等离子体化学汽相沉积装置和磁镜场制备了SnO<,2>导电薄膜,研究了不同磁镜场对PCVD制得的SnO<,2>薄膜电阻、电阻空间分布均匀性,以及SnO<,2>薄膜电阻与基片的加热温度、射频电源输出电流和薄膜的沉积时间等关系的影响.
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