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该论文从光学全息的基本理论出发,对TIR全息光刻技术的原理及其实现方法进行了深入的理论研究与分析;并结合耦合波理论,讨论了显影前后记发材料的膨胀与收缩及其平均介电常数的改变对全息掩模衍射效率的影响;最后设计加工了TIR全息微光刻实验系统,并开展了实验研究,作出了分辨率和曝光视场均基本上只受初始光掩模的分辨率和视场限制的光刻图形,这一结果证明了TIR全息微光刻技术具有结构简单、高分辨率、大视场、图象高保真度以及在大面积曝兴视场内处处达到高分辨率光刻等优点.