【摘 要】
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该论文的主要工作是对连续的和光刻成不同尺寸和间隔的微米、亚微米矩形阵列的磁性坡莫合金薄膜Ta/NiFe/Ta进行了一系列的研究.具体的工作为以下几个方面：1.系统地表征了薄膜
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该论文的主要工作是对连续的和光刻成不同尺寸和间隔的微米、亚微米矩形阵列的磁性坡莫合金薄膜Ta/NiFe/Ta进行了一系列的研究.具体的工作为以下几个方面：1.系统地表征了薄膜的结构;我们用扫描电子显微镜（SEM）确定样品的成分及阵列的尺寸和结构.2.Ta/NiFe/Ta三层连续磁性坡莫合金膜磁性的研究;我们用振动样品磁强计（VSM）系统地研究了不同厚度的连续薄膜的磁滞回线,得到了样品的饱和磁化强度Ms及矫顽力Hc;系统地进行了样品的铁磁共振研究.3.电子束刻蚀亚微米矩形阵列的图形坡莫合金磁性薄膜的磁性研究;用SQUID磁强计测量了样品的磁滞回线,估计了样品的体积及饱和磁化强度Ms及矫顽力Hc;我们还用原子力、磁力显微镜（MFM）观察样品中制备态的形貌和磁化状态;系统的铁磁共振（FMR）测量及理论拟合,发现和连续膜不同,图形阵列单元中存在相当大的面内磁各向异性,面内磁各向异性来源于图形化亚微米单元的面内退磁场能的各向异性.4.退磁场和磁化状态的理论计算.学习了微磁学数值计算方法,研究了不均匀退磁场分布和磁化状态的不均匀.
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