纳米结构具有许多新颖、独特的性质，在电学、光学、磁学等纳米器件上均有非常广泛的应用。采用电化学阳极氧化法制备的具有有序自组装孔径结构的多孔阳极氧化铝，由于其独特的纳米阵列结构，近年来受到研究人员的广泛重视。多孔阳极氧化铝具有良好的光学性质和机械性能。但是目前在绝缘性的光学基片上制备大面积的多孔氧化铝膜的研究仍然不理想，这限制了其在光学方面的应用。因此，研究多孔氧化铝膜在光学基片上的制备技术对于推动氧化铝在光学器件上的应用具有重要意义。　　 本文利用电子束蒸发和扫描阳极氧化方法，成功地在绝缘性的光学基片上制备出大面积、高质量的多孔氧化铝膜。采用该方法制备的多孔氧化铝膜与光学基片结合良好并且具有很高的透明性。测试结果表明，该样品在600nm-2000nm的波长范围内平均透过率超过90％。　　 在上述研究的基础上，利用光刻和化学刻蚀工艺在光学基片上成功制备出面积超过5cm×5cm的阳极氧化铝基透射式相位光栅元件。同时，利用波长为532nm和650nm的单色激光对制备的光栅的衍射性能进行了分析。实验测试结果与理论分析结果十分吻合。此外，我们还采用类似的方法成功地制造出了表面起伏型透射光栅和含有密集棋盘状花纹的衍射光学元件。该方法证明:采用常规的光刻工艺即可制备出大面积、高质量的阳极氧化铝基衍射光学元件。该研究有望促进多孔阳极氧化铝在光学方面的应用。