在3D成像技术的系统中,滤光片作为光接收模组中重要的一部分,用来过滤掉环境中的杂光,只允许成像系统工作的波段光通过,提高了成像质量。而该滤光片除了要求良好的光学性能外,还得具备一定的抗恶劣环境性能,同时由于是企业生产,要能实现量产。本文针对项目的需求,充分利用在企业设备齐全的优势,基于光学薄膜设计理论,用TFCalc镀膜设计软件来进行设计与制备。选取了合适的镀膜材料,企业生产涉及到成本问题,因此对比市场上常见的镀膜材料包括高折射率的TiO2和Ta2O5等、低折射率的MgF2和SiO2等,选择了折射率差比较大的Ta2O5和SiO2的组合。本文的创新点在膜系设计方面,利用拆分原理,基础膜系结构选用的是在前表面镀制基于法布里-珀珞窄带的膜系,其结构为（Air/LHL2HL（HL8HL）4HL4HLHL/Sub）,后表面镀制长波通截止膜系,其结构为（Sub/0.5HL0.5H）S/Air),来消除前表面产生的旁通带,并且两面的第一层都插入SiO2作为保护层,将两个表面分别进行优化后前表面31层、后表面24层,再进行两面叠加模拟,经过TFCalc软件优化后,成功设计出927～963nm波段透过率平均值大于97%,350～910nm和977～1100nm波段平均透过率小于0.05%的膜系。根据光驰OTFC-1550的设备性能,采用电子束蒸发沉积、离子源辅助方法,设置Ta2O5、SiO2沉积速率分别为3.5?/sec、12?/sec,基底温度设为130℃,真空度设为为4×10-4Pa等工艺参数,制定该样品的生产流程,提高良率与效率,成功生产出一批样品后,对样品进行测试。镀制的成品通过了外观、光学性能、可靠性性能检测,结果显示达到了技术指标要求,但仍存在不足,实测光学性能与理论光学性能的误差分析出有6个方面;外观不良是因为基片清洗步骤和机台清洗步骤的问题;高温高湿后透过率会下降,则再次加大离子源功率生产后进行试验,根据透过率测试结果,表明了加大离子源功率使膜层更紧致、隔绝水汽的方案可行。