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聚合物基新型纳米电介质材料因其优异的电气性能、热学性能和机械性能而广泛应用于电气绝缘、变频电机、集成电路、燃料电池和医疗卫生等领域,此类新型材料的设计与研制已成为材料科学研究的热点问题。本文利用成分、结构和电气绝缘性能与云母类似的层状MMT (蒙脱土)和球状AlN (氮化铝)纳米颗粒掺杂聚酰亚胺(PI)基体,制备具有较高耐电晕性能的纳米电介质材料。采用原位聚合法制备了不同组分单层、三层PI/AlN和PI/MMT+AlN四种类型聚酰亚胺基纳米复合薄膜。利用扫描电镜、透射电镜、X射线衍射、同步辐射小角X射线散射等方法研究复合薄膜微观结构。研究结果表明,AlN或MMT+AlN颗粒镶嵌在PI基体中,三层薄膜各层厚度均匀,层与层之间排列紧密。四种类型薄膜都存在相界面层,随着组分增加,相界面层厚度增加;三相纳米复合薄膜呈现多尺度的结构特征;PI/AlN单层与三层薄膜具有双分形特征,PI/MMT+AlN单层与三层薄膜存在三重分形特征。采用耐电晕测试方法研究不同结构复合薄膜电晕特性,结果表明,与单层PI/MMT+AlN薄膜相比,三层薄膜具有优异的耐电晕性能;组分为15wt%的薄膜耐电晕时间为242小时,是纯聚酰亚胺薄膜的80倍;单层薄膜的击穿场强普遍高于同组分的三层薄膜的击穿场强。利用小角X射线散射、X射线衍射、原子力显微镜、扫描电镜等测试手段,以准动态的方式研究不同电晕时间后薄膜微观结构演化;研究结果表明,随着电晕时间的增加,薄膜表面逐渐出现团簇现象,无机纳米颗粒聚集在薄膜表面,团簇数量增多,尺寸变大,形成有效放电阻挡层;同时,电晕老化引起聚合物高分子链结构变化,随着电晕时间的增加,聚合物高分子链间平均距离增加,电晕老化侵蚀改变了高分子链的柔顺性,导致聚合物分子链结构破坏并重新排列;随电晕时间的增加,薄膜界面层厚度增加,其中PI/MMT+AlN三相三层薄膜界面层厚度最大,层状MMT与球状AlN协同作用显著提高复合薄膜耐电晕性能。在分析大量实验结果基础上,提出了纳米颗粒、聚合物基体、界面层三者关系模型,阐明界面作用及电晕过程中微观结构演化机制,随电晕时间增加,纳米颗粒对高分子链的锚定作用减弱,内层(束缚层)厚度变小;高分子链之间平均距离变大,外层(过渡层)厚度增加,束缚层与过渡层厚度比例的变化,削弱放电阻挡层的作用,导致材料破坏。颗粒、基体、界面三者关系模型为深入研究纳米电介质耐电晕机理提供了新思路。