氢能可以做为人类未来理想的能源,具有清洁,不污染环境,可以有效的输运、储存,资源不受限制等特点.贮氢材料的研究是氢能技术的核心;非晶材料和薄膜材料应用于贮氢领域是八十年代发展起来的新方向,在该文工作中,利用离子束溅射的方法(IBS)制备了Ti-Ni非晶合金薄膜,并研究了这种材料的电化学性能,在此基础上探讨了溅射的工艺参数如成份及薄膜的沉积速度对于薄膜的电化学性能的影响,二者通过影响非晶薄膜的结构而使薄膜的性能发生变化.该实验中薄膜的沉积速度在0.15-0.03nm/s之间,薄膜的成份中Ti含量在45-50at.%之间薄膜可以获得较好的综合电化学性能.该文中用Harris模型和Miedema模型估算了非晶合金的理论电化学容量及Ti-Ni非晶合金氢化物形成焓,认为钛原子比在0.5-0.65之间容易获得最高电化学容量;Ti-Ni非晶合金为等原子比时非晶合金形成焓较小,理论电化学容量高,非晶合金氢化物稳定.该文的实验结果证明两种理论模型都可以用以指导实验工作,为进一步研究贮氢薄膜性能打下理论基础.在该文工作中薄膜的沉积速度为0.03nm/s时,试样Ti<,50>Ti<,50>电化学容量为458mAh/g,证明非晶材料容易获得较高的容量.试样Ti<,44>Ni<,56>沉积速度为0.03nm/s电化学容量为200mAh/g,综合性能好;另外实验结果表明Ti-Ni非晶薄膜有较好的快速充放电性能.