微透镜阵列在光束整形、光束准直等方面有着非常重要的作用,制作微透镜阵列的方法也有多种。本文针对柱面微透镜阵列的制作,在研究掩模移动光刻原理及方法的基础上,研究了数字掩模的理论及作用,并设计了用于制作柱面微透镜阵列的数字掩模,采用数字移动掩模光刻法制作柱面微透镜阵列,分析了光刻工艺中影响微透镜阵列面形的因素,通过选择曝光时间、显影液浓度、显影液温度和显影时问,来对微透镜阵列的面形进行控制。制作出面形较为理想的柱面微透镜阵列,单个微透镜的矢高为5.17μm,曲率半径为62.95μ m,焦距为114.45μ m。研究结果表明,在移动掩模光刻法中,数字掩模适于连续面形的微透镜阵列的制作。在移动掩模光刻过程中,工件台移动的直线性、定位精度、丝杠的位移传动都会影响微透镜阵列的面形；在光刻工艺中,曝光时间、显影时间、显影液浓度和显影液温度也会影响微透镜阵列的面形。