含Ni-Al薄膜的硅基铁电电容器研究

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【摘要】

：

采用磁控溅射技术(magnetron sputtering)在Si基片上沉积了抗氧化的Ni-Al薄膜,构建了具有Pt/ LNO /PZT/LNO/STO、Pt/PZT/LNO/SiO2/Si和Pt/PZT/LNO/Ni-Al/Si结构的铁电电容器。利用X射线衍射仪(XRD)、反射式高能电子衍射仪(RHEED)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪(four-probe measurement)、铁

【作者】

：

武德起

【机构】

：

河北大学

【发表日期】

：

2006年06期

【关键词】

：

磁控溅射铁电存储器 Ni-Al导电阻挡层 LNO/STO异质结反射式高能电子衍射仪(RHEED)

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