电解质-等离子抛光技术是一种优于传统抛光方法，可明显降低复杂形状的金属制品表面粗糙度，达到很好的抛光效果。本文首先从电化学的角度，建立了微观工艺模型，对控制系统提出了工艺控制要求。　　本文根据100KW型设备的工艺控制要求和工业应用要求，采用以可编程序控制器PLC为逻辑核心的控制系统，并对PLC控制系统进行了深入的研究设计。首先进行硬件总体设计，元件选型，模块扩展构架PLC硬件系统。结合加工工艺过程，用梯形图设计控制系统程序。基本功能采用开关量接触器控制方式，特殊模块采用先进控制算法，主要包括温度系统的模糊控制器、伺服驱动系统的数字PID控制器。　　在此基础之上，本文完成了对温度系统的模糊控制器、伺服系统的数字PID控制器的设计和实现。首先对模糊控制理论、PID控制规律建立控制模型；模糊控制器采用玛达尼（Mamdani）法和重心法将模糊规则推理成表，形成模糊控制表；PID控制器是对连续性PID算法进行数字离散化，形成数字PID控制规律；在可视化HMI-WPLSoft程序图形编辑器平台上，模糊控制器通过软件编程实现离线的查表法控制方式，PID控制器采用调用指令库中PID功能指令实现数字PID控制。特殊功能模块采用先进控制算法，保证了电解液温度的稳定、挂架运动的可靠性，为电解质-等离子抛光提供一个稳定的工艺环境。　　最后，本文在100KW型设备构架完成的基础上，设计了工艺试验，验证了所设计的控制系统的有效性和可靠性。