【摘 要】
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该文的主要工作是研究纳米NiAl单层膜和NiAl/Ni复合多层膜从沉积制备到退火晶化的生长过程和微结构演化行为.该工作使用直流磁控溅射用合金靶和复合靶制备γ-NiAl纳米单层膜
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该文的主要工作是研究纳米Ni<,3>Al单层膜和Ni<,3>Al/Ni复合多层膜从沉积制备到退火晶化的生长过程和微结构演化行为.该工作使用直流磁控溅射用合金靶和复合靶制备γ-Ni<,3>Al纳米单层膜和具有纳米周期结构的复合多层膜γ-Ni<,3>Al/Ni.沉积态单层膜和多层膜的γ-Ni<,3>Al子层是具有化学成分比Ni：Al=75：25at﹪的无序的面心立方（fcc）结构.该文还使用原子力显微镜（AFM）表征薄膜表面和截面形貌,以及使用X射线衍射仪（XRD）表征晶体结构和物相.比较了沉积态和退火态下薄膜微结构的演化行为,探讨了制备条件以及调制周期对其的影响.结果表明,加热（400℃以上）溅射工艺将提高多层膜的质量,如膜面平整、薄膜致密、层界清晰等.该工作的最后部分使用傅立叶红外光谱仪（FTIR）研究了由复合靶制备的Ni<,3>Al纳米薄膜的光学性质,并计算了Ni<,3>Al纳米薄膜的折射率和光波在其中的传播速度,对其在磁-光记录和光存储上的应用进行了初步探讨.
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