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常压等离子体增强化学气相沉积(Plasma-enhanced chemical vapordeposition)是使原料气体在电场中成为等离子体状态,产生化学上非常活泼的激发态分子、原子、离子和原子团等,促进化学反应,在衬底表面上形成薄膜的技术。本论文采用自行设计组装的常压介质阻挡放电等离子体增强化学气相沉积装备研制具有荧光特性的多孔硅基纳米颗粒薄膜。与传统多孔硅电化学湿法制备技术比较,本APECVD方法具有下列特点:衬底适应性好,成膜温度较低,并可在非耐热有机衬底上成膜;放电形式简单,设备成本较之