薄膜的制备工艺技术是通过各种工艺条件的控制,如真空、膜厚监控和温度控制等来使蒸发膜料在基片沉积形成薄膜状态。每一个工艺因素都可能对最终薄膜的性质产生重大影响。现在制备技术已经经过长期发展,种类很多,最常用的一种就是真空热蒸发方法。宽带增透膜在光学器件生产中有着重要作用。为满足望远镜等光学系统中光学元件可见光范围宽光谱增透的使用要求,根据Tfcalc软件优化设计膜系,使用离子辅助沉积,晶振膜厚控制仪,电子束热蒸发镀膜方法,通过对镀膜工艺参数的不断改进和调整,制备400-700nm的宽带增透膜。结果表明:所制作的可见光增透膜在400-700nm之间平均反射率达到0.36%,优于望远镜等光学系统的增透要求,确定一套优化的镀膜工艺。滤光片在美容、数码和军事等方面应用广泛,针对美容机常用的长波通滤光片,设计出640nm中心波长的膜系。使用真空镀膜机通过电子束蒸发的方法对膜系进行镀制。合理的设计实验流程,并对所镀膜层进行性能分析。实验对滤光片影响因素进行了分析,最终获得中心波长636nm左右,通带和截止带都优于产品标准的长波通滤光片。采用电子束热蒸发和无端离子源的设计工艺镀制的滤光片温漂和透过率变化相比其它工艺组合要小的多,光谱稳定,并拥有较好的低应力控制能力。