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功率封装用Ni-Fe-P化学镀层的制备及性能研究
【摘 要】
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功率电子封装中,焊料与铜基板界面金属间化合物(IMCs)的过度生长会破坏封装的可靠性。为抑制IMCs的过度生长,可在铜基板表面制备一层金属化层(UBM)作为扩散阻挡层,目前化学镀Ni-P合金是最常用的UBM。然而,Ni-P镀层高温下会形成Ni_3P柱状晶,晶界间的孔隙会为元素提供扩散通道并恶化扩散阻挡性能,不适用于功率电子封装。通过化学镀在Ni-P合金中引入Fe获得的Ni-Fe-P三元镀层,具有良
【出 处】
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武汉理工大学
【发表日期】
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2020年01期
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