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随着光催化技术的研究与发展,其在环境方面的应用越来越受到人们的重视。稳定性好、光催化活性高的TiO2引起了学者的广泛关注,但是其较高的禁带宽度3.2eV,只能对紫外光有吸收,从而限制了其太阳光利用率。单斜相的BiVO4作为一种新型的半导体材料,具有较好的可见光响应度,其禁带宽度为2.4eV,但是单纯的BiVO4的导带边的电势位于0V的位置,其光生电子不容易与空气中的氧气结合生成活性物质,导致电子在催化剂表面形成积累,增加了电子与空穴的复合几率,从而大大降低了BiVO4在可见光下的光催化活性。经研究表明,两种半导体的复合材料具有较好的可见光光催化活性。粉末状的光催化剂存在易失活、难回收等缺点,使其应用受到限制。薄膜类的光催化剂具有稳定性好、耐酸碱性强和易回收等优点,在日常生活中得到广泛应用。其中自清洁材料得到很好的发展。自清洁材料是通过光致分解有机物或者超疏水性和超亲水性实现自清洁功能,在建筑、交通、新能源等行业具有重要的应用前景。本文包括以下几个部分:（1）以普通玻璃为基底,采用溶胶凝胶法制备不同涂覆次数的TiO2薄膜和添加二乙醇胺制备的TiO2薄膜（以下简称为T-1）。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和Uv-Vis光谱分析考察不同涂覆次数的薄膜的晶型、形貌和紫外可见光吸收能力。同时,通过降解亚甲基蓝和接触角的测定来考察薄膜的光催化活性和自清洁能力。（2）先采用水热法制备了BiVO4粉体,研究了pH对BiVO4晶型的影响。得出酸性条件下有利于单斜相的BiVO4生成。再以普通玻璃为基底,采用溶胶凝胶法制备了不同涂覆次数的BiVO4薄膜,利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和Uv-Vis光谱分析考察薄膜的晶型、形貌和紫外可见光吸收能力。同时,通过降解亚甲基蓝和接触角的测定来考察薄膜的光催化活性和自清洁能力。（3）采用溶胶凝胶法制备了TiO2/BiVO4薄膜。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和Uv-Vis光谱分析考察薄膜的晶型、形貌和紫外可见光吸收能力。同时,通过降解亚甲基蓝和接触角的测定来考察薄膜的光催化活性和自清洁能力。并与单一的T-1薄膜和BiVO4薄膜的光催化活性和自清洁能力进行比较,发现TiO2/BiVO4薄膜比单一的T-1薄膜和BiVO4薄膜具有更高的可见光催化活性和优异的自清洁能力。（4）采用溶胶凝胶法制备了SiO2薄膜和TiO2/BiVO4/SiO2薄膜。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和Uv-Vis光谱分析考察薄膜的晶型、形貌和紫外可见光吸收能力。同时,通过降解亚甲基蓝和接触角的测定来考察薄膜的光催化活性和自清洁能力,并TiO2/BiVO4薄膜进行比较,发现光催化活性有所降低,但是仍比单一的T-1薄膜和BiVO4薄膜的光催化活性高,自清洁能力优异。