Ni改善DLC薄膜结构及相关力学、摩擦学性能研究

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类金刚石(DLC)薄膜以其高硬度、低摩擦、良好的耐磨性、光学透明度和高化学惰性等特性引起了人们的广泛关注。由于这些优异的性能,DLC薄膜已被广泛应用于几个关键的应用领域,如磁记录磁盘的保护涂层、切削工具、光学元件和微机电装置。但在使用过程中存在着内应力高、膜基结合力差、摩擦学性能不稳定等问题。目前,国内外研究者主要通过构筑复合结构来解决这些问题,并取得了一定成果。本论文通过射频磁控溅射技术制备了不同调制周期的Ni/DLC多层薄膜和不同Ni含量掺杂的DLC薄膜,考察了薄膜的调制周期和Ni元素含量对薄膜
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