光纤光栅是目前最具代表性的光纤无源器件之一,在当今的光纤系统中属于核心部件。光纤光栅已在光纤通信、光纤传感和光信息处理等领域得到了广泛应用。对其不同的结构方式与性能及其潜在的应用领域的研究,使得新型的光纤光栅的制备方法和应用特性始终获得研究者们的青睐。本文第一部分基于本课题组所发展的新型复合纳米压印技术,理论模拟与研究制备工艺中不同刻蚀深度、不同光纤直径等参数对表面浮雕式光纤光栅的反射性能的影响关系。通过利用耦合模理论对浮雕式光纤光栅的模拟,我们研究了随着刻蚀深度的改变,反射谱的带宽的变化趋势,随着周期和外部折射率的改变,共振波长的位置的变化趋势,随着光纤直径的改变,共振波长的位置与反射谱的带宽的变化趋势以及随着光纤长度的改变,反射率的变化趋势。我们测量共振波长的位置的改变,实际上测得周期或者外部折射率的改变,,最终测得相应的外部应力或者外部材料的改变。我们利用刻蚀深度和光纤直径的改变使反射谱的带宽变窄,提高波长的选择性,运用到激光器和DWDM上。本文第二部分研究表面浮雕式相移光栅及其与目前传统的相移光栅相比较时所具有的优势。以及相移位置的改变,所造成的等峰现象。浮雕式相移光栅的反射谱半最大值全宽度在刻蚀深度为400纳米的时候为7纳米,反射谱的透射窗口的半最大值全宽度为0.1纳米。这样我们就可以提高波长选择性,从而应用到窄带激光器上。接下来,我们模拟出了6个相移和10个相移等峰的反射谱的谱图。由于浮雕式微纳光纤Bragg光栅具有耐高温、尺寸小、与光纤兼容、机械强度好、可测量的散射波、对环境有较高的灵敏度这些优点,有可能在微小型滤波器、光纤谐振腔、激光器等微纳光子器件中获得应用,成为一种新的结合光纤和纳米技术的微纳光子功能结构。