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铁氧体自从被发现以来,已经被研究了很长的一段历史。它主要包括软磁、旋磁、压磁和矩磁等。NiCuZn软磁铁氧体具有以下优点：涡流损耗小,成本低,电阻率大等。它的应用频率范围是KHz到近GHz,能够实现高频射频信号的能量传输和阻抗变换,广泛应用于电脑、电视和通讯等领域,主要用于制造电感等元件。但迄今为止,成功地应用于集成电路的高频NiCuZn铁氧体薄膜的制备与研究很少,成功的制备出高饱和磁化强度和低矫顽力的软磁性能成为一个重要的限制因素,其应用前景很广泛。本文以Ni (NO.):,6H2O Cu (NO3)2.3H2O,(CH3COO)2Zn.2H2O Fe (NO3)3,.9H2O(分析纯)为原料,以N,N-二甲基甲酰胺为溶液,以聚乙烯吡咯烷酮)作为分散剂,采用溶胶凝胶方法制备NiCuZn凝胶,然后用自蔓延燃烧的方法制备NiCuZn粉末并压环,采用甩胶的方法制备NiCuZn薄膜。论文重点研究了铁含量和热处理温度对NiCuZn铁氧体性能的影响。得到了一下一些有意义的结果：1.粉末样品①用溶胶凝胶法制备的NiCuZn粉体材料,在750℃以上热处理即可生成纯的尖晶石结构的磁性相。②铁含量x=2.0的正分配比NiZnCu铁氧体1000℃保温3小时的预烧料的静态磁性能最优,矫顽力约为8.4Oe,比饱和磁化强度达到78.0emu/g。2.烧结体样品①1000℃下烧结的x=2.0材料静态磁性能最优,矫顽力为1.5Oe,饱和磁化强度为79.5emu/g。②1000℃下烧结的x=1.8材料的起始磁导率最高,接近125,截止频率约为20MHz。随x增大,磁导率降低、截止频率提高,x=2.1和2.2时,截止频率高于100MHz。3.薄膜样品①不同铁含量的经800℃下热处理6分钟的薄膜样品都形成纯的尖晶石结构。虽然铁含量有所变化,但其XRD的峰位以及峰的强度基本相同。②不同铁含量的经800℃下热处理6分钟的薄膜样品的晶粒尺寸范围约为40-90nm,且随着铁含量增大,晶粒尺寸先减小后增大。③正分配比x=2.0的薄膜样品的矫顽力最小,约为63.7Oe；饱和磁化强度也最大,约为403emu/cc,而多铁和缺铁的薄膜样品其饱和磁化强度相对较低,矫顽力也有一定程度的增大。④烧结体样品和薄膜样品的饱和磁化强度和矫顽力随铁含量的变化,其变化趋势大致相同,但是薄膜样品的矫顽力却是增大很多,这是由于NiCuZn薄膜和Si基片具有不同的热膨胀系数,从而带来应力造成的。