随着有机染料废水和空气中VOCs（挥发性有机化合物）排放量的不断增加,一系列的环境问题越来越严重。在环境治理和修复方面,光催化技术被认为是一种有效手段之一。光催化剂的制备是光催化领域的应用关键。目前,人们在对众多半导体材料研究的基础上开发了一系列光催化应用。然而,防止光生电子-空穴对复合并提高其迁移能力仍然是光催化剂面临的挑战。UiO-66系列是一种MOFs材料,由金属模板和有机连接体组成。UiO-66由于孔径可控、比表面积高而具有良好的吸附效果被广泛应用,但其催化作用仍然受到限制。针对这一问题,本文通过将g-C3N4与UiO-66结合,组成异质结,提高光催化性能。具体内容如下:（1）采用水热法制备不同形貌的UiO-66。通过加入不同摩尔量的冰乙酸来调节前驱体溶液,构造不同的缺陷位。以四氯化锆和对苯二甲酸为原料,制备不同形貌的UiO-66。经过对其表面形貌和微观结构表征,证明了UiO-66的成功合成,并进行了光电性能测试。结果表明,材料U4各方面的性能最为优异。（2）采用高温煅烧法和水热合成法构建UiO-66/g-C3N4 n-n型异质结光催化剂。使用SEM、TEM、XRD、XPS等表征方法,证明复合材料的成功制备,并对其进行光电性能测试。结果表明,复合材料UOCN-50各方面的性能最为优异。（3）光催化剂降解实验。将制备成功的光催化剂进行Rh B染料和二甲苯气体的降解。通过设置不同污染物类型,不同污染物浓度,评估其光催化活性,并进行光催化反应机理的探究。结果表明,复合材料UOCN-50的光催化性能表现最为优异,在140分钟内10 ppm Rh B染料的降解效率达到了98.98%,相同时间内,20 ppm的Rh B染料的降解效率较低。在二甲苯的降解过程中,4 mg/cm~2负载量时降解效果最好,而在催化剂负载量不变的情况下,二甲苯浓度越高,催化剂对其的降解效率越低。根据以上的表征和测试,本文提出了一种可能的光催化降解机理,复合材料UiO-66和g-C3N4之间的n-n异质结结构,使得该催化剂在光催化降解污染物方面显示出优异的性能。