快速烧结和老化对高透氧化锆半透性的影响

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目的:以高强氧化锆为对照组,研究了快速烧结和低温老化对高透氧化锆半透性的影响,为快速烧结在临床中的应用提供一定的参考。材料和方法:本实验选取来自爱尔创的A2色高强氧化锆ST-ML和高透氧化锆TT-ML,利用CAD/CAM技术根据22%的烧结比例切割成边长10 mm、厚度1.5 mm的方片状,各60个,共120个试件。将切割好的ST-ML、TT-ML分别随机分成两组进行常规烧结和快速烧结,ST-ML常规烧结的烧结温度为1530℃,保温2小时,快速烧结的烧结温度为1550℃,保温10分钟;TT-MLL常规烧结的烧结温度为1480℃,保温2小时,快速烧结的烧结温度为1500℃,保温10分钟。烧结完成后4组锆块分别随机分为3组,在134℃、0.2MPa的条件下分别进行0小时、5小时和20小时的低温老化处理。所有试件在暗环境下,分别在黑白背景下用Shade Eye NCC电脑比色仪(SHOFU,日本)测量色彩学特征参数(L*、a*、b*值),使用半透明参数(translucency parameter,TP)评估氧化锆的半透性。采用场发射扫描电镜(SEM)观察表面形貌。采用SPSS 25.0进行统计分析,采用双因素方差分析和Bonferroni进行比较分析,检验水准α=0.05。结果:1、关于快速烧结对氧化锆半透性的影响,对于高强氧化锆ST-ML,快速烧结的TP值显著低于常规烧结(P<0.05),而对于高透氧化锆TT-ML,快速烧结的TP值显著高于常规烧结(P<0.05)。2、关于低温老化对氧化锆半透性的影响,随着老化时间的延长,常规烧结的高强氧化锆ST-ML的TP值显著降低(P<0.05),但快速烧结的高强氧化锆ST-ML的TP值未见明显差异(P>0.05);不论采用何种烧结方式,随着老化时间的延长,高透氧化锆TT-ML的TP值的变化没有统计学意义(P>0.05)。3、快速烧结和低温老化的交互作用对高强氧化锆ST-ML以及高透氧化锆TT-ML的半透性均具有显著影响(P<0.05)。4、扫描电镜观察,高强氧化锆ST-ML快速烧结后晶粒尺寸明显变小,高透氧化锆TT-ML未见明显差异。经低温老化后两种氧化锆表面均可见粒子喷出和微裂纹。结论:1、快速烧结会降低高强氧化锆的半透性,提高高透氧化锆的半透性。2、低温老化会降低高强氧化锆的半透性,低温老化对高透氧化锆的半透性没有影响。3、就半透性而言,建议使用快速烧结方式烧结高透氧化锆。
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