薄膜/基底结构屈曲问题的数值模拟

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当前,随着电子技术的飞速发展,具有柔性基底的可变形电子产品应运而生并得到了快速发展。而同时伴着材料薄膜技术的迅猛发展,膜层材料在许多工程领域得到广泛应用。因此,对硬质薄膜/柔性基底这类结构的研究显得非常重要。国内外学者对于硬质薄膜/柔性基底结构的屈曲问题日益关注,但目前的研究主要集中在静态情况下对薄膜/基底结构的实验分析和理论研究,这些分析多使用平面应变模型,忽略了薄膜宽度的影响。同时,对空间薄膜/基底结构二维屈曲模态的研究也才刚刚起步,实验成果和理论模型都较少。相应地,无论是平面还是空间
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尖晶石型铁氧体薄膜在垂直磁记录、磁光记录、电子器件等方面的优势,越来越受到人们的重视。在铁氧体中,钴铁氧体是亚铁磁性氧化物,具有适当的饱和磁化强度、高的磁晶各向异性和矫顽力、良好的化学稳定性和机械耐磨性;Ni-Zn铁氧体与金属或金属合金相比其最大的优点是电阻率高,因此有几乎可以忽略的涡流损耗及趋肤效应。本文采用溶胶-凝胶旋涂法制备了铁氧体/SiO_2纳米复合薄膜。利用X射线衍射(XRD)仪、X射线
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