球面金刚石厚膜制备技术研究

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【摘要】

：

采用直流等离子体喷射化学气相沉积法(DC Arc Plasma Jet CVD,DCPCVD)生长了球面金刚石厚膜,研究了DCPCVD法制备过程中生长工艺参数对高密度成核及膜厚均匀性的影响,为CVD金刚石在窗口材料中的应用提供前期准备。所完成的主要工作如下:1、采用DCPCVD法生长球面金刚石厚膜,成功制备出直径为65mm,球冠高度5mm,膜厚500μm的球面膜;研究了甲烷浓度、基体温度等因素对球

【作者】

：

陆海泉

【发表日期】

：

2008年03期

【关键词】

：

DCPCVD 球面金刚石厚膜微观结构温度场流场仿真

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