【摘 要】
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TiO2薄膜是一种性能优良的半导体材料,由于具有光催化活性高、化学性能稳定、安全无毒以及成本低廉等优点,作为环保型光催化材料在环境工程、生物医学、材料科学以及人们的日常生活等领域中都有着广阔的应用前景。但实现其可见光催化一直是研究的难点之一。本论文用射频磁控溅射法在各种不同的制备条件下在医用载玻片上成功地制备了TiO2薄膜,并提出了一种利用离子注入对TiO2薄膜进行N掺杂的方法。考察了不同的氧分压
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TiO2薄膜是一种性能优良的半导体材料,由于具有光催化活性高、化学性能稳定、安全无毒以及成本低廉等优点,作为环保型光催化材料在环境工程、生物医学、材料科学以及人们的日常生活等领域中都有着广阔的应用前景。但实现其可见光催化一直是研究的难点之一。本论文用射频磁控溅射法在各种不同的制备条件下在医用载玻片上成功地制备了TiO2薄膜,并提出了一种利用离子注入对TiO2薄膜进行N掺杂的方法。考察了不同的氧分压、基片温度、退火温度、水热处理温度对TiO2薄膜性能的影响,对N掺杂后的TiO2薄膜光学性能进行了研究。
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