本文重点讨论了曲面光刻的关键技术——自动调焦系统,并对曲面工艺及光刻线条进行实验分析。 在曲面调焦系统调焦范围过小这一问题上,提出步进电机、压电陶瓷二级定位驱动机构。通过PID比例调节,很好的解决了二级驱动系统的控制冗余问题。在此基础上,提出全新的预搜索机制,完成初始化时的物面焦点搜索,使得系统对基片厚度变化有较大的适应性。 在曲面探焦方法的选择上,首先我们分析了现有探测方法——离轴二象限探测器法,根据zemax光线仿真结果,我们得出了离轴二象限法在曲面调焦问题上不再具有可行性。为此我们提出两种实现方法,偏心光束法和针孔调焦法。针对针孔调焦法不能给出离焦方向这一问题,我们借鉴双管差动原理,不仅可以给出离焦方向,同时差动还可以消除外界因素的影响,提高系统调焦精度,找到了理论上曲面调焦探测的较佳方法。 同时,我们对曲面甩胶工艺进行了理论分析,建立了胶层流体力学模型,得出凸球面的胶层厚度变化趋势和曲面的曲率、匀胶转速的关系。通过曲面光刻实验,我们在曲面得到了8um的均匀线条。