【摘 要】
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利用低压化学气相沉积法生长的高质量多晶金刚石薄膜(简称多晶CVD金刚石薄膜),其优良的物理、化学性质已接近或达到了天然金刚石的水平.而且,与颗粒状的天然金刚石及高温高压
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利用低压化学气相沉积法生长的高质量多晶金刚石薄膜(简称多晶CVD金刚石薄膜),其优良的物理、化学性质已接近或达到了天然金刚石的水平.而且,与颗粒状的天然金刚石及高温高压金刚石相比,CVD金刚石是一种连续致密的多晶薄膜,更适宜作各种散热、耐磨涂层材料和光学薄膜材料.这些优良的性能使CVD金刚石薄膜在电学、热学、声学、光学以及机械加工等许多领域中具有了极为广阔的应用前景.为了进行有关多晶CVD金刚石薄膜方面的研究,他们利用热灯丝辅助的化学气相沉积(HFCVD)生长系统生长金刚石薄膜.实验中应用的检测方法除了包括光学金相显微镜和常规的扫描电子显微镜(SEM),以及红外和拉曼光谱以外,还利用了该实验室自己研制的光致发光装置,对有关发光方面的性质进行了研究.
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