光学光刻技术一直是微加工技术的主流技术之一,是近来世界各国研究的重点。本论文在纵观了光学光刻技术的国内外发展现状的基础上,针对高校、普通研究所等科研单位的需求,进行了一种价格低、结构简单、操作方便的不同于以往光刻系统的新型光刻技术——紫外扫描光刻技术的研究,具有十分重要的理论意义和迫切的需求背景。论文在全面分析了现有几种光刻方式各自特点的基础上,对球面波的传输、整形特性,以及聚焦时光强极大值点的焦移等问题作了详细的研究,提出了一种集合了电子束光刻和光学光刻各自优点的扫描式光刻的新思想和新方法。进行了紫外扫描光刻系统光学部分的结构设计、分析和模拟仿真,确定了系统整体方案;进行了驱动电路、光学耦合方式、光束聚焦方式等关键技术的探索研究,并搭建实验平台,进行相关的测试和实验分析。论文的主要研究工作是:1.分析微加工技术的国内外发展现状,特别是对光学光刻的发展现状和趋势进行全面的分析;2.比较目前常用的几种紫外光源,选择合适的光源,并对其驱动电路进行仿真设计和实验分析;3.较深入地比较分析球面波与高斯光束的特点,对光学耦合系统和光束聚焦系统进行详细的分析和设计;4.进行相关的光学实验,并对实验结果进行分析和讨论。