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氧化铪磁控溅射靶冷等静压成形与烧结工艺的研究
氧化铪磁控溅射靶冷等静压成形与烧结工艺的研究
来源 :北京有色金属研究总院 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sun949423350
【摘 要】
:
该文通过对氧化铪(HfO)靶材冷等静压成形工艺与烧结成形工艺的试验研究,讨论了HfO粉末冷压成形及其压坯烧结的影响因素.
【作 者】
:
石祥密
【机 构】
:
北京有色金属研究总院
【出 处】
:
北京有色金属研究总院
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
氧化铪(HfO)
磁控溅射靶
冷等静压
烧结工艺
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该文通过对氧化铪(HfO<,2>)靶材冷等静压成形工艺与烧结成形工艺的试验研究,讨论了HfO<,2>粉末冷压成形及其压坯烧结的影响因素.
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