微弧区间脉冲参量对Ti及TiN薄膜微观形貌及硬度的影响

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根据气体放电双峰曲线中伏安特性处于“欧姆-反欧姆”过渡区间时,其电子迁移通量将数十倍于磁控溅射离子镀、靶电压数倍于多弧离子镀这一特性。借助脉冲电源模式构建出依靠宽脉冲强电离电场使真空腔内满足强辉弱弧的放电环境,并通过脉冲参量的调控将气体放电维持在强辉弱弧区间的不同阶段。基于此制备纯金属Ti薄膜及化合物TiN薄膜,并利用SEM、AFM、XRD、TEM、纳米压痕仪等检测手段,对薄膜组织形貌、晶体结构及显微硬度进行表征,以探索脉冲环境下镀料粒子能量大小及粒子沉积行为对薄膜生长过程及性能的影响规律。实验发现
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