磁流变抛光的电磁场控制装置及抛光特性研究

来源 :哈尔滨工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:woodcock999
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首先,对磁流变抛光的原理及其微观机理进行了分析,并对磁流变液的特性进行研究.从磁流变液(Magnetorheological Fluids,MR Fluids)的材料组成来选择适宜的成分制备磁流变液.用Bingham模型对磁流变势光的剪切应力τ进行分析.其次,对磁流变抛光所需的电磁场回路进行了设计,对空间磁场分布进行了分析推导,并模拟空间磁场的分布,证明电磁铁产生的磁场能够使磁流变形成缎带凸起,满足磁流变抛光的要求.基于意法公司(ST)L4970A芯片设计出具有10A、5.1~40V输出的电压可调型开关稳压电源,为磁流变抛光的电磁铁提供连续可调电源,实现了电磁场的控制,来调节抛光区域孤磁压力与工件材料的去除率.最后,在磁流变抛光实验中,改变不同的参数:抛光盘和工件的相对速度、磁场强度、抛光时间、不同的磁流变液等参数,在磁流变抛光数学模型Preston方程的指导下分析这些参数的影响,验证磁流变抛光的可行性与数学模型Preston方程的正确性.应用SPM检测磁流变抛光的光学工件表面质量,来检验磁流变抛光的效果.
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