微弧氧化技术是一种能在阀金属及其合金表面通过微等离子体放电原位生长氧化物陶瓷膜的表面改性技术。该技术包含了复杂的电化学、等离子化学和热化学过程。利用此项技术形成的表面膜但微弧氧化过程复杂且存在很多不可控因素，关于陶瓷膜的形成机理和陶瓷膜性能改善等方面还没有系统的研究报道。本论文以6063型铝合金为基体材料，采用微弧氧化技术在其表面制备陶瓷膜，系统研究微弧氧化工艺条件对陶瓷膜性能的影响，探索了膜的形成机理以及添加纳米颗粒对膜层性能的改善。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪等对微弧氧化陶瓷膜的相组成、微观组织形貌、元素成分分布和厚度进行研究，利用MT-3型(HV)显微硬度、MM-2P型屏显示磨损试验机对微弧氧化陶瓷膜的截面显微硬度和摩擦性能进行测定。　　 研究结果表明，以硅酸钠为主成膜剂、H3BO3为添加剂的微弧氧化电解液体系制备的微弧氧化陶瓷膜显微硬度可以达到1120HV，致密层厚度占总陶瓷膜的60.25％。陶瓷膜的显微硬度值和厚度随正负向电压、电源频率和负向占空比的增大先增后减。在微弧氧化处理过程中，陶瓷相是在铝合金基体上直接生长的，在生长初始阶段，以向外生长为主，达到一定厚度后，逐渐转向基体内部生长。经化学抛光后的基体表面在微弧氧化过程中活化放电的时间早于电化学抛光试样，但经过电化学抛光后得到的微弧氧化膜膜层净重和显微硬度值最大。显微硬度测试结果表明，与未添加纳米陶瓷颗粒制备的陶瓷膜(1320HV)相比，添加SiC、ZrO2、Al2O3纳米陶瓷颗粒后，陶瓷膜显微硬度值提高为1650HV、1551HV和1675HV。摩擦实验表明，添加SiC纳米陶瓷颗粒后，微弧氧化陶瓷膜的摩擦性能最佳。