类金刚石薄膜(DLC膜)具有很高的硬度、耐磨性、导热性、绝缘性、高的透光性、化学惰性强及其良好的生物相容性等特点，已被广泛的应用于机械、电子、光学及医学领域。与金刚石薄膜相比，DLC膜的制备具有设备简单，制备成本低，沉积速率高等优点，因而具有很高的研究价值。 以高纯石墨片为靶材，采用非平衡磁控溅射法制备了DLC膜。研究DLC膜在玻璃基体表面产生褶皱的原因，从增强膜基结合力的角度入手，考察超声清洗对膜基结合力的影响。 为了与玻璃基体对照，另选用Ni、Mo、Si三种材料作为基体，制备DLC膜，采用Raman光谱分析薄膜的结构，比较不同基体的膜基结合力和薄膜的直流导电性的差异。其中玻璃基体与DLC膜结合力最差，不宜直接成膜，而DLC膜在其它三种基体上附着力较好，Ni基体制备的薄膜中含有较多的sp~2杂化碳原子，导电性能良好。 为增强膜基结合力，采用电子束沉积方法，先在玻璃基体表面沉积一层Ni的过渡层，然后采用非平衡磁控溅射的方法在过渡层上继续沉积DLC薄膜，制备Ni／DLC复合薄膜。通过扫描电镜、激光Raman、数字万用表对薄膜结构和性质进行分析。结果表明，薄膜表面光滑、平整、致密，具有DLC膜的Raman光谱特征，有良好的电学性质。