在软X射线波段(0.2-50nm)，任何材料的折射率均接近于1，而且吸收很大，无法组成透射式光学系统，同时单层膜反射镜对近正入射软X射线反射率几乎为零，因此正入射软X射线成像系统只能由镀有软X射线多层膜的反射镜构成。　　 软X射线多层膜的膜层非常薄，一般仅几个纳米，在制备超薄多层膜时很难制备出膜层连续的多层膜结构。本文用一个简单的不连续多层膜模型模拟研究了多层膜不连续度对其软X射线光学性能的影响，证明随着不连续度的增加，软X射线多层膜的峰值反射率下降。超薄多层膜不仅很难制备出连续的膜层，而且膜层间的扩散也比较严重，为了克服以上两个制备多层膜的难点，本文提出了一种周期性梯度折射率软X射线多层膜的设计方法。分别采用折射率正弦周期性变化模型和折射率直线周期性变化模型研究了软X射线多层膜的反射率，结果表明，用正弦模型设计的多层膜的软X射线反射率达到理想多层膜设计反射率的85％以上。这种折射率周期性梯度变化的多层膜的设计方法对软X射线多层膜的设计具有一定意义。为了防止软X射线多层膜的界面扩散，还可以在两个膜层间增加第三种材料膜层来屏障界面扩散，文中用四层结构模型模拟了Mo/Si多层膜的软X射线反射率，详细的研究了扩散屏障层dMo-on-Si和dSi-on-Mo对Mo/Si多层膜软X射线反射率的影响。研究发现，扩散屏障层并不总是损害Mo/Si多层膜的光学性能，通过合理设计dMo-on-Si和dSi-on-Mo厚度，增加dMo-on-Si与dSi-on-Mo的比值，它也能提高多层膜的软X射线反射率。　　 详细研究了膜层数对Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率的影响。随着膜层数的增加，Mo/Si多层膜的表面粗糙度先增加后减小，界面粗糙度一直增加。多层膜的软X射线反射率主要由膜层数和界面粗糙度决定，随着膜层数增加，反射率先增加后减小。　　 Mo靶溅射功率对Mo/Si多层膜的微结构和光学性能也有很大影响。随Mo靶溅射功率增大，多层膜的表面粗糙度增加，Mo膜层结晶，Mo/Si多层膜的软X射线反射率先增加后减小。Mo靶溅射功率具有一个最佳值使Mo/Si多层膜的软X射线反射率达到最大。　　 用AES和XPS简单分析了本实验室所用磁控溅射系统制备的Mo/Si多层膜的组分。表明Mo/Si多层膜含有原子百分含量20％左右的N和O，多层膜中含有Si氧化物和Mo氧化物。　　 本文最后列出了中心波长13.5nm和13.9nmMo/Si多层膜的制备结果，也给出了中心波长4.4nm的Fe/C和Co/C多层膜的初步结果。