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PECVD薄膜沉积系统在半导体薄膜沉积过程中得到了非常广泛的运用，同时也是制造非晶硅薄膜太阳电池的主要设备。PECVD沉积的氮化硅薄膜，沉积在晶体硅太阳电池的表面，对太阳光有良好的减反射作用，并且对晶体硅表面和体内的缺陷起到很好的钝化作用，从而大大的提高了太阳电池的转换效率。
现在，国内在生产和科研单位运用PECVD系统沉积薄膜已经相当的广泛。但是科研单位主要是小面积的PECVD的沉积系统，而生产线上使用的大面积连续PECVD沉积系统主要是依靠国外进口。
本文设计并实现了全自动控制大面积连续生产SiNx薄膜PECVD沉积设备的系统。本论文主要的特点是具有很强的工程性，并且直接为产业化服务，该成果直接用于我国首台自主研发的大面积、连续生产的全自动PECVD沉积系统。
本论文包括以下三个方面的研究内容：
1、根据大面积连续生产SiNx薄膜PECVD自动沉积系统的要求实现设备硬件的优化设计。
2、大面积连续生产SiNx薄膜PECVD沉积系统的稳定、安全、灵活的自动控制的设计与实现。编写的自动控制软件不仅方便设备生产，而且也方便设备的检修。软件拥有优秀、直观的人机界面，方便工人的操作。
3、通过软件调节不同的制备工艺参数，在全自动控制下，研制出理想的SiNx薄膜。