【摘 要】
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含氟无定形碳薄膜(a-C：F：H)是一种新型功能材料，它可以用作电介质膜、抗摩膜、抗反射膜、保护膜、防腐膜以及包装材料薄膜等。本文利用射频等离子体增强化学气相沉积法，以CF_4和CH_4为反应气体，Ar或N_2为工作气体，制备了在不同工艺参量下的a-C：F：H膜，并对薄膜进行了退火处理；利用SEM、AFM、FTIR、XRD、Ellip、UV-VIS、Raman、XPS等测试、分析手段着重研究了射频
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含氟无定形碳薄膜(a-C：F：H)是一种新型功能材料，它可以用作电介质膜、抗摩膜、抗反射膜、保护膜、防腐膜以及包装材料薄膜等。本文利用射频等离子体增强化学气相沉积法，以CF_4和CH_4为反应气体，Ar或N_2为工作气体，制备了在不同工艺参量下的a-C：F：H膜，并对薄膜进行了退火处理；利用SEM、AFM、FTIR、XRD、Ellip、UV-VIS、Raman、XPS等测试、分析手段着重研究了射频功率、沉积温度、流量比和退火温度对薄膜的组分、化学键结构和物理性质的影响。通过研究得出：a-C：F：H薄
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